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在校學生
年級 |
姓名 |
研究方向 |
主要使用儀器 |
碩二 |
張孝慈 |
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直流磁控濺鍍系統 (DC Magnetron Sputtering system) |
林光彥 |
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直流磁控濺鍍系統 (DC Magnetron Sputtering system) |
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陳慶倫 |
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離子輔助電子束蒸鍍系統 (E-Beam) |
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林承璿 |
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直流磁控濺鍍系統 (DC Magnetron Sputtering system) |
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專題生 |
李培煒 |
直流磁控濺鍍系統 (DC Magnetron Sputtering system) |
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邢向群 |
直流磁控濺鍍系統 (DC Magnetron Sputtering system) |
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| 徐偉鈞 |
直流磁控濺鍍系統 (DC Magnetron Sputtering system) |
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王毓萱 |
直流磁控濺鍍系統 (DC Magnetron Sputtering system) | ||
陳雅稜 |
離子輔助電子束蒸鍍系統 (E-Beam) | ||
盧泰言 |
直流磁控濺鍍系統 (DC Magnetron Sputtering system) |
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吳哲文 |
直流磁控濺鍍系統 (DC Magnetron Sputtering system) |
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莫俊傑 |
直流磁控濺鍍系統 (DC Magnetron Sputtering system) | ||
陳姵澐
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直流磁控濺鍍系統 (DC Magnetron Sputtering system) |
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畢業校友
薄膜門第子 |
姓名 |
論文研究題目 |
主要使用儀器 |
博士後 研究員
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Kola Koteswara Rao |
多元氧化物、氧化物光觸媒 | |
| 微波電漿化學氣相沈積系統 (MPCVD)之c-BN硬膜 之研究 |
微波電漿化學氣相沈積系統 (MPCVD) | ||
Praveen Kumarc |
光觸媒性質與銀線成長之研究 | ||
反應濺鍍AlCoCrCuFeNi多元氮化物及氧化物薄膜之製備、結構與性質研究 |
濺鍍系統 (Sputtering system) 脈衝雷射鍍膜系統 (Pulsed Laser Deposition) 分析式穿透式電子顯微鏡(JEOL 3010 AEM) |
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| 博士班 | |||
第一代 |
利用MPCVD於碳-氫-金屬系統中合成鑽石之研究 |
微波電漿化學氣相沈積系統 (MPCVD) |
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Ti-B-N單層及多層膜製程與特性之研究 |
直流磁控濺鍍系統 (DC Magnetron Sputtering system) |
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AlN/TiN及AlN/ZrN超晶格之合成與特性分析 |
直流磁控濺鍍系統 (DC Magnetron Sputtering system) |
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利用熱燈絲系統在碳-氫-金屬混合物中合成鑽石 |
熱燈絲化學氣相沈積系統 (HFCVD) |
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第二代 |
立方含碳氮化硼薄膜的製備與特性研究 |
直流磁控濺鍍系統 (DC Magnetron Sputtering system) |
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AlN/VN 及 AlN/ZrN 超晶格多層膜之合成與特性 |
直流磁控濺鍍系統 (DC Magnetron Sputtering system) |
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利用熱活化法與熱燈絲化學氣相沉積法合成鑽石 |
熱燈絲化學氣相沈積系統 (HFCVD) |
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第三代 |
奈米晶粒鑽石與立方氮化硼薄膜之製備與性質 |
電子束蒸鍍系統 (E-Beam) |
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氮化硼單層膜及與氮化鋁和氮化鈦之多層膜的 |
直流磁控濺鍍系統 (DC Magnetron Sputtering system) |
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Plasma Enhance HF－CVD法製作carbon nanotube |
微波電漿化學氣相沈積系統 (MPCVD) |
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金屬氮化物多層膜的殘留應力與磨耗性質之 |
x-ray量測系統 |
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第四代 |
鎳鐵次微米線的製作與性質研究 |
蒸鍍及濺鍍設備 |
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利用鐵、鎳金屬片及次微米鐵點陣列成長具 |
熱燈絲化學氣相沈積系統 (HFCVD) |
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氧化鎢與氧化釩單層膜與多層膜之製備與 |
直流磁控濺鍍系統 (DC Magnetron Sputtering system) |
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氧化鈦與氧化釩單層膜與多層膜之製備與 |
電子束蒸鍍系統 (E-Beam) |
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第五代 |
立方氮化硼薄膜及立方氮化硼薄膜 / 奈米晶粒 |
微波電漿化學氣相沈積系統 (MPCVD) |
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氮化硼單層膜與氮化鋁多層膜的合成與特性 |
直流磁控濺鍍系統 (DC Magnetron Sputtering system) |
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二氧化鈦薄膜的性質和結構分析與其光觸媒行為 |
離子輔助電子束蒸鍍系統 (E-Beam) |
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氧化鎢、氧化鈦單層膜及多層膜之製備及其 |
直流磁控濺鍍系統 (DC Magnetron Sputtering system) |
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第六代 |
以微波電漿化學氣相沈積法合成立方氮化硼 |
微波電漿化學氣相沈積系統 (MPCVD) |
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離子輔助蒸鍍製備氮和碳摻雜之二氧化鈦 |
離子輔助電子束蒸鍍系統 (E-Beam) |
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濺鍍二氧化鈦與氮摻雜二氧化鈦薄膜之結構 |
直流磁控濺鍍系統 (DC Magnetron Sputtering system) |
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多元高熵合金氮化物及氧化物薄膜→奈米金屬線→多元氧化物半導體可見光光觸媒 |
濺鍍系統 (Sputtering system) 脈衝雷射鍍膜系統 (Pulsed Laser Deposition) 分析式穿透式電子顯微鏡(JEOL 3010 AEM) |
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第七代
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濺鍍製備碳與硼摻雜之二氧化鈦薄膜作為可 見光光觸媒之研究 |
直流磁控濺鍍系統 (DC Magnetron Sputtering system) | |
| 離子輔助蒸鍍製備碳摻雜之二氧化鈦薄膜 作為可見光光觸媒之研究 |
離子輔助電子束蒸鍍系統 (E-Beam) | ||
第八代 |
利用GLAD法成長二氧化鈦薄膜光觸媒性質 之研究 |
離子輔助電子束蒸鍍系統 (E-Beam) | |
| 立方氮化硼的製備與分析之研究 | 微波電漿化學氣相沈積系統 (MPCVD) 分析式穿透式電子顯微鏡(JEOL 3010 AEM) |
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| 奈米銀線於二氧化鈦薄膜上成長機制與多層膜之研究 |
直流磁控濺鍍系統 (DC Magnetron Sputtering system) | ||
第九代 |
碳摻雜二氧化鈦光觸媒薄膜的成分與相變化之研究 |
離子輔助電子束蒸鍍系統 (E-Beam) | |
共濺鍍沉積組合式碳與二氧化鈦複合薄膜光觸媒活性之研究 |
微波電漿化學氣相沈積系統 (MPCVD) 分析式穿透式電子顯微鏡(JEOL 3010 AEM) |
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| 氧化亞銅與二氧化鈦之緻密與多孔性雙層膜之光觸媒性質 |
直流磁控濺鍍系統 (DC Magnetron Sputtering system) | ||
第十代 |
反應共濺鍍鈮摻雜二氧化鈦薄膜之結構、光電與機械性質研究 | 直流磁控濺鍍系統 (DC Magnetron Sputtering system) | |
| 利用斜角度沉積法制備二氧化鈦薄膜於染料敏化太陽能電池之運用 | 離子輔助電子束蒸鍍系統 (E-Beam) | ||
| 碳與氧對於含碳之二氧化鈦薄膜在熱處理時相變化之效應 |
直流磁控濺鍍系統 (DC Magnetron Sputtering system)
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第十一代 |
二氧化鈦工作電極的結構對染料敏化太陽能電池的表現之影響 |
離子輔助電子束蒸鍍系統 (E-Beam) |
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畢業專題生
畢業年度
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姓名
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92 |
黃柏誌 黃瓊儀 陳芷若 李佶翰 梁逸翔 施丞達 林傳宗 陳易萱 蘇恆甲 | ||
93 |
許景盛 陳文泰 張恆睿 蔡任豐 | ||
94 |
張家誠 鄧永門 | ||
95 |
唐欣瑜 | ||
96 |
簡雲倩 陳柏柅 蔡宜臻 周詣傑 高維駿 | ||
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