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研究專長  研究計畫  過去五年研究計畫

郭東昊

e-mail：mailto:dhkuo@mail.ndhu.edu.tw

學歷/畢業：美伊利諾州立大學材料科學與工程研究所博士(1997)

Kuo, Dong-Hau

現職/起迄：國立東華大學材料科學與工程學副教授(2001.08)

到任年月份(東華)：1997年8月

研究領域：材料製程／表面披覆技術／電子陶瓷／複合材料

聯絡電話:(03)8634208  (03)8634201

一、期刊論文

A1. D. H. Kuo, C. N. Shueh, “Growth and properties of TiCl₄-derived CVD titanium oxide films at different CO₂/H₂ inputs,” Chemical Vapor Deposition, accepted. (SCI)

A2. D. H. Kuo, B. Y. Cheung and R. J. Wu, "Growth and Properties of Aluminum Silicate Films Obtained by Low-Pressure Metal-Organic Chemical Vapor Deposition," J. of the Am. Ceram. Soc., accepted. (SCI)

A3. D. H. Kuo, C. H. Chien, “Growth and properties of sputtered zirconia and zirconia-silica thin films,” Thin Solid Films, accepted. (SCI)

A4. D. H. Kuo and B. Y. Cheung "Aluminum silicate films obtained by metal-organic chemical vapor deposition using aluminum-tri-sec-butoxide and tetraethyl orthosilicate," J. of Non-Crystalline Solids, accepted. (SCI)

A5. D. H. Kuo and K. H. Tzeng, "Growth and Properties of Titania and Aluminum Titanate Thin Films Obtained by RF Magnetron Sputtering," Thin Solid Films, 420-421 (2002) 497-502 [12月](SCI)

A6. D. H. Kuo, C. H. Chien , and C. H. Hunag, "Zirconia and Zirconia-silica Thin Films Deposited by Magnetron Sputtering," Thin Solid Films, 420-421 (2002) 47-53 [12月] (SCI)

A7. D. H. Kuo and W. C. Liao, "A new class of Ti-Si-C-N coatings obtained by chemical vapor deposition, Part III: 650-800^oC process" Thin Solid Films, 419 (2002) 11-17 [11月] (SCI)

A8. D. H. Kuo and W. C. Liao, "Ti-N, Ti-C-N, Ti-Si-N Coatings obtained by APCVD at 650-800°C," Applied Surface Science, 199 (2002) 278-286 [10月] (SCI)

A9. D. H. Kuo and B. Y. Cheung, "Growth behaviors of low-pressure MOCVD aluminum silicate films deposited with two kinds of silicon sources: hexamethyldisilazane and tetraethyl orthosilicate," J. of Vacuum Science & Technology A, 20 [5] 1511-1516, 2002. [9月/10月] (SCI)

A10. D. H. Kuo, B. Y. Cheung and R. J. Wu, "Growth and Properties of Alumina Films Obtained by Low-Pressure Metal-Organic Chemical Vapor Deposition," Thin Solid Films, 398-399 (2001) 35-40 [11月] (SCI)

A11. D. H. Kuo and C. C. Chang, T. Y. Su, W. K. Wang, and B. Y. Lin, "Dielectric behaviors of multi-doped BaTiO₃/epoxy composites," J. of the European Ceramic Society, 21 (2001) 1171-1177 [9月] (SCI)

A12. D. H. Kuo and K. W. Huang, "A New Class of the Ti-Si-C-N Coatings by Chemical Vapor Deposition, Part I: 1000°C Process," Thin Solid Films, 394 (2001) 72-80 [8月] (SCI)

A13. D. H. Kuo and K. W. Huang, "A New Class of the Ti-Si-C-N Coatings by Chemical Vapor Deposition, Part II: Low-Temperature Process," Thin Solid Films, 394(2001) 81-89 [8月] (SCI)

A14. D. H. Kuo and K. W. Huang, "Kinetics and Microstructure of TiN Coatings by CVD," Surface Coatings and Technology, 135 (2001) 150-157 [1月] (SCI)

A15. D. H. Kuo and D. G. Yang, "Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition of Silicone Carbonitride using Hexamethyldisilazane and Nitrogen," Thin Solid Films, 374 (2000) 92-97[10月] (SCI)

A16. D. H. Kuo and D. G. Yang, "Thick SiO₂ films obtained by Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition using Hexamethyldisilazane, carbon dioxide, and Nitrogen," J. Electrochem. Soc., 147 (7) 2679-2684 (2000) [7月] (SCI)

二、研討會論文

B1. 蔡文斌、郭東昊，多重摻雜鈦酸鍶塊材之研究，2002年材料學會年會，91年11月22-23日，論文編號：PN-04，國立台灣大學。

B2. 薛正男、郭東昊，化學氣相沈積二氧化鈦及鈦酸鋁薄膜成長與性質之研究，2002材料學會年會，91年11月22-23日，論文編號：PK-02，國立台灣大學

B3. 賴欽銓、郭東昊，異質摻雜二氧化鈦薄膜之研究，2002年中華民國鍍膜科技研討會，91年8月30-31日，論文編號：C23，頁數：253-256，台南縣永康市崑山科技大學。

B4.  莊伯佑、郭東昊，以TEOS為矽源製備MOCVD矽酸鋁薄膜，2002年中華民國鍍膜科技研討會，91年8月30-31日，論文編號：C07，頁數：185-188，台南縣永康市崑山科技大學。

B5. 郭東昊、曾國華，Growth and Properties of Titania and Aluminum Titanate Thin Films obtained by Magnetron Sputtering, Int’l Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films (ICMCTF 2002), Apr. 22-26, San Diago, CA, USA (2002).

B6. 郭東昊、簡吉鴻，Zirconia and Zirconium Silicate Thin Films Deposited by Magnetron Sputtering, Int’l Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films (ICMCTF 2002), Apr. 22-26, San Diago, CA, USA (2002).

B7. 曾國華、郭東昊，磁控濺鍍法製備氧化鋁、二氧化鈦與鈦酸鋁薄膜及其性質之研究，2001年材料學會年會，90年11月23-25日，論文編號：P11-01，台中國立中興大學。

B8. 簡吉鴻、郭東昊，磁控濺鍍法製備氧化矽、氧化鋯與矽酸鋯薄膜及其性質之研究，2001年材料學會年會，90年11月23-25日，論文編號：P11-01，台中國立中興大學。

B9. 廖文傑、郭東昊，化學氣相沉積法製備複雜的四元Ti-Si-C-N鍍膜，2001年中華民國

鍍膜科技研討會，90年8月30-31日，中華民國鹿港勞工教育學苑。

B10.郭東昊、莊伯佑、吳仁傑，Growth and Properties of Alumina Films Obtained by Low-Pressure

Metal-Organic Chemical Vapor Deposition, Int’l Conference on Metallurgical Coatings and

Thin Films (ICMCTF 2001), Apr. 30- May 4, San Diago, CA, USA (2001).

B11. 郭東昊、廖文傑，Growth and Microstructure of the Quaternary Ti-Si-C-N Coatings by CVD , Int’l Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films (ICMCTF 2001), Apr. 30- May 4, San Diago, CA, USA (2001).  To be published in Surface and Coating Technology.

B12. 郭東昊，可接著之陶瓷疊層材料於絕熱塗層上之研究 (II)，八十九年度電力科技產業學術合作研究計劃研討會，89年8月24-25日，台灣科技大學。

B13. 張謙志、郭東昊，蘇德宇、王文谷、林斌淵，平面型複合電容之製備與電性量測，2000年材料學會年會，89年11月24-25日，高雄義守大學。

B14. 張謙志、郭東昊、薛人愷、李裕文，鎳/玻璃陶瓷功能梯度材料，2000年材料學會年會，89年11月24-25日，中華民國高雄義守大學。

B15. 莊伯佑、郭東昊，有機金屬化學氣相沈積法成長氧化鋁薄膜及其性質之研究，2000年材料學會年會，89年11月24-25日，中華民國高雄義守大學。

B16. 楊東記、郭東昊，電漿化學氣相沈積SiO₂薄膜成長動力學與性質之研究，1999年材料學會年會，88年11月26-27日，中華民國新竹工研院。

B17. 黃冠文、郭東昊，化學氣相沈積Ti-Si-C-N鍍膜之成長特性及其性質研究，1999年中華民國鍍膜科技研討會，88年9月3-4日，中華民國新竹交通大學。

B18. 郭東昊，可接著之陶瓷疊層材料於絕熱塗層上之研究，八十八年度電力科技產業學術合作研究計劃研討會，88年8月19-20日，台灣科技大學。

B19 . D. H. Kuo and C. C. Chang, "A Fiber-Reinforced Composite with Ultra-Low Thermal Expansion, " Ceramic Transaction, vol. 103, Edited by N. P. Bansal, J. P. Singh, and E. Ustundag, the Am. Ceram. Soc. (1999) 395-406 (Ceramic Annual Meeting, Apr. 24-Apr. 28, Indianapolis, IN, USA, 1999)